10 月 30 日，中微公司发布 2025 年第三季度报告，业绩表现亮眼：前三季度营业收入达80.63 亿元，同比激增 46.40%；净利润 12.11 亿元，同比增长 32.66%，盈利能力稳步提升。
分业务来看，核心业务刻蚀设备收入 61.01 亿元，同比增长 38.26%，持续贡献主要营收；LPCVD、ALD 等薄膜设备表现惊艳，收入 4.03 亿元，同比暴涨 1332.69%，成为新的增长引擎。研发投入力度显著加大，前三季度研发支出 25.23 亿元，同比增长 63.44%，占营收比例达 31.29%，远高于科创板均值，为技术突破奠定坚实基础。
净利润增长主要源于三方面：营收增长带动毛利增加 8.27 亿元；研发提速支撑产品竞争力提升；股权投资收益 3.29 亿元，同比增加 2.75 亿元。
产品端成果显著：先进逻辑与存储刻蚀工艺实现大规模量产，60:1 超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配，下一代 90:1 设备即将上市；ICP 刻蚀设备加工精度达单原子水平，进展顺利。薄膜设备性能跻身国际领先，已顺利入市且覆盖率持续提升；硅和锗硅外延 EPI 设备完成量产验证获客户高度认可，化合物半导体外延设备正推进生产验证。此外，公司新品研发周期缩短至两年内，未来将加速推出多款新产品。
亿配芯城（ICgoodFind）总结：中微公司业绩高增彰显技术实力，核心产品与新兴业务齐发力，为半导体设备国产化注入强劲动力。
