8 月 16 日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称为 “中微公司”）对外宣告，已向美国法院郑重递交诉状，对美国国防部将其归入中国军事企业清单（简称为 “CMC 清单”）的这一决定提起诉讼。
美国时间 1 月 31 日，依据《2021 财年国防授权法案》第 1260H 条，美国国防部把中微公司列入了 CMC 清单。中微公司坚定地认为，美国国防部将中微公司列入 CMC 清单的这一决策是错误的，与事实不符，毫无法律依据，并且违背了程序的正当性，给中微公司的声誉带来了极为严重的负面影响。
自从被列入 CMC 清单之后，中微公司全力以赴，积极地与美国国防部展开沟通，澄清事实真相，提供了大量充分的证据，用以证明自身不符合 CMC 清单的认定标准，并要求美国国防部将中微公司从 CMC 清单中予以移除。然而，令人遗憾的是，截至正式起诉之日，中微公司的这一诉求仍未得到满足。正因如此，中微公司不得不借助法律渠道，请求法院责令美国国防部撤销其错误决定，以消除误解，维护中微公司的合法权益，同时保障中微公司股东、客户以及合作伙伴的利益。
中微公司表明，一直以来都坚持合法、合规经营，严格遵循国内和国际的法律法规，从未参与任何与军事相关的活动。在 2021 年 1 月 14 日（美国东部时间），美国国防部曾将中微公司列入中国军事企业清单。经过中微公司凭借充分的事实和证据向美国国防部申诉，于同年 6 月 3 日（美国时间），中微公司成功地从该清单中被移除。
中微公司董事长兼总经理尹志尧表示：“我们对于美国国防部再次将中微公司列入涉军清单深感震惊。这一决定是错误且毫无根据的。我们坚信法院将会做出公正的裁决，将中微公司从 CMC 清单中移除。同时，我们也愿意继续与美国国防部保持沟通，以友好妥善的方式解决现存的争议。”
中微半导体设备（上海）股份有限公司主要从事半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售。
公司的产品包括电容性耦合的等离子体源（CCP）刻蚀设备、电感性耦合的等离子体源（ICP）刻蚀设备、金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）设备、挥发性有机化合物（VOC）设备等。其致力于为全球集成电路、发光二极管（LED）外延片、功率器件、微机电系统（MEMS）等半导体产品的制造企业提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。
公司在等离子体刻蚀设备和 MOCVD 设备领域有深厚的技术积累。例如其 CCP 单台机和双台机，以及 ICP 单台机和双台机可覆盖大部分刻蚀应用；2013 年发布的第一代 MOCVD 设备 PrismoD-Blue® 因较高的灵活性和生产效率、优异的性能以及简便的设备维护，获得了客户认可，2016 年的第二代 MOCVD 设备 PrismoA7® 则进一步提升了生产效率和加工性能。
在科研成果方面，2021 年 5 月，该公司成功研制出 3nm 蚀刻机，且完成了原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估，并已进入量产阶段；同年 8 月，开发出小于 5 纳米刻蚀设备用于若干关键步骤的加工；10 月 25 日，其全球第 500 台 MOCVD 设备顺利付运。
同时，中微公司基于在半导体装备产业多年耕耘积累的专业技术，跨足半导体芯片前端制造、先进封装、发光二极管生产、MEMS 制造以及其他微观制程的高端设备领域，服务遍布中国大陆和台湾、新加坡、韩国、德国、意大利等国家和地区的客户。
2019 年在美国领先的半导体产业咨询公司 VLSIResearch 对全球半导体设备公司的 “客户满意度” 调查和评比中，该公司综合评分继 2018 年之后继续保持全球第三，在芯片制造设备专业型供应商和专用芯片制造设备供应商评比中均名列第二，并在薄膜沉积设备评比中继续名列第一。同时，全球晶圆制造设备商评级为五星级公司仅有五家，中微公司是其中之一。
