12 月 23 日，一则来自国家知识产权局的公告引发了广泛关注。日本富士胶片株式会社（简称 “富士胶片”）的一件名为 “图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及抗蚀剂膜” 的专利 ZL201180025664.8，在经过合议组的严谨审理后，得出了引人深思的结果：该专利权利要求 1 由于不具备创造性而被判定无效，而权利要求 2 - 17 则继续维持有效，基于此，国家知识产权局宣告该专利权部分无效。颇为蹊跷的是，此次无效请求人竟是一个自然人 “陈荣玉”，明眼人一看便知，这极有可能是使用了 “稻草人” 策略，巧妙地隐藏了与富士胶片可能发生纠纷的实体真实名称，背后究竟隐藏着怎样的产业纷争，令人遐想不已。
深入探究这份专利，根据其说明书记载，该项发明聚焦于一种形成负型图案的方法，该方法有着极为严苛的技术要求，其特别适于使用采用波长为 300 纳米以下的远紫外光作为光源的 ArF 曝光装置、ArF 液体浸渍投影曝光装置或 EUV 曝光装置来曝光，并且涉及一种专门适用于此方法的组合物。简而言之，这一专利主要涉及富士胶片与 EUV 光刻胶有关的前沿技术，而 EUV 光刻胶又是当下半导体高端制造领域的关键所在，这无疑使得该专利纠纷的影响力被进一步放大。
那么，问题来了，在中国这片蓬勃发展的光刻胶产业版图中，到底是哪家从事光刻胶研发或生产的实体可能与富士胶片发生了专利纠纷呢？这一疑问如同迷雾，笼罩在众多业内人士心头。
无巧不成书的是，就在国家知识产权局做出这份无效决定的短短三天后，也就是 2024 年 12 月 26 日，来自中国厦门的一家光刻胶企业 —— 厦门恒坤新材料科技股份有限公司（简称 “恒坤新材”）迎来了一个重要的发展里程碑，其科创板 IPO 被正式受理。这一消息如同在平静的湖面投下一颗石子，泛起层层涟漪。从恒坤新材披露的招股书中，我们仿佛打开了一扇了解中国光刻胶产业发展现状的窗口，得以一窥全貌。
恒坤新材的招股书毫不避讳地揭示了中国光刻胶产业曾经走过的艰难历程：在早期阶段，由于多种因素的制约，中国境内光刻材料的发展脚步颇为缓慢，这直接导致光刻材料原材料的开发缺乏强劲动力与清晰目标，进而间接使得现阶段中国境内光刻材料原材料仍然大部分依赖进口，犹如被他人扼住了产业发展的咽喉，处处受制于人。
尽管近年来，随着中国自主的集成电路产业如同雨后春笋般快速发展，部分关键材料已逐步实现国产化应用，让人们看到了一丝曙光。但不可忽视的是，目前整个行业的国产化率仍然处于较低水平，尤其是在中高端领域，差距依旧明显。根据弗若斯特沙利文市场研究的数据显示，在 12 英寸集成电路领域，i - Line 光刻胶、SOC 国产化率仅在 10% 左右徘徊，BARC、KrF 光刻胶国产化率更是低至 1 - 2%，令人揪心的是，ArF 光刻胶国产化率甚至不足 1%，而 EUV 光刻胶更是完全被国外厂商垄断，成为我国半导体产业向高端迈进的一道难以逾越的鸿沟。
再将目光投向全球 12 英寸集成电路晶圆制造领域，当下生产半导体光刻胶的企业主要集中在少数几个国家。其中，日本合成橡胶、信越化学、东京应化、富士胶片等日本企业凭借深厚的技术积累和先发优势占据了大半壁江山，此外，还有来自美国的杜邦等企业也在市场中分得一杯羹。这些国外巨头凭借技术垄断，长期把控着光刻胶的高端市场，使得我国光刻胶企业在国际竞争中面临巨大压力。
